產(chǎn)品簡(jiǎn)介
ultraLYZE VUV 是一款高性能真空紫外（VUV）光譜測(cè)量系統(tǒng)，集透射與反射測(cè)量于一體，專為115–350 nm深紫外波段精密分析設(shè)計(jì)。采用全自動(dòng)操作模式（turn-key），支持高真空（<10?? mbar）或氮?dú)獯祾攮h(huán)境，滿足材料在極端條件下的光學(xué)特性表征需求，精度穩(wěn)定優(yōu)于0.3%，為科研與工業(yè)提供可靠數(shù)據(jù)支撐。
為何選擇 ultraLYZE VUV？
全波段覆蓋
115 nm起測(cè)，突破常規(guī)紫外限制，直達(dá)深紫外臨界波段
工業(yè)級(jí)精度
雙光路校準(zhǔn)技術(shù)實(shí)現(xiàn)<0.3%超穩(wěn)重復(fù)性，適用于質(zhì)檢場(chǎng)景
環(huán)境適應(yīng)性
高真空/惰性氣體雙模式，應(yīng)對(duì)VUV苛刻測(cè)量條件
模塊化未來(lái)
按需升級(jí)偏振、微區(qū)、自動(dòng)化功能，保護(hù)設(shè)備投資價(jià)值
適用場(chǎng)景：光學(xué)鍍膜實(shí)驗(yàn)室、半導(dǎo)體光刻研發(fā)中心、空間載荷研制單位、新型能源材料評(píng)估平臺(tái)
關(guān)鍵規(guī)格參數(shù)
核心結(jié)構(gòu)與技術(shù)特點(diǎn)
典型應(yīng)用領(lǐng)域
先進(jìn)光學(xué)材料
VUV抗反射膜、氟化鎂（MgF?）/氟化鈣（CaF?）透鏡的透射率與反射損耗分析。
半導(dǎo)體光刻技術(shù)
光刻膠在EUV/VUV波段的吸收特性與均勻性評(píng)估（支持193 nm/157 nm關(guān)鍵波長(zhǎng)）。
空間科學(xué)與天文探測(cè)
空間望遠(yuǎn)鏡鏡面涂層在Lyman-α（121 nm）等波段的反射性能驗(yàn)證。
探索物質(zhì)深紫外響應(yīng)的終極工具——從基礎(chǔ)研究到產(chǎn)線質(zhì)檢，ultraLYZE VUV定義VUV光譜新標(biāo)準(zhǔn)。
關(guān)鍵規(guī)格參數(shù)
核心結(jié)構(gòu)與技術(shù)特點(diǎn)
典型應(yīng)用領(lǐng)域
先進(jìn)光學(xué)材料
VUV抗反射膜、氟化鎂（MgF?）/氟化鈣（CaF?）透鏡的透射率與反射損耗分析。
半導(dǎo)體光刻技術(shù)
光刻膠在EUV/VUV波段的吸收特性與均勻性評(píng)估（支持193 nm/157 nm關(guān)鍵波長(zhǎng)）。
空間科學(xué)與天文探測(cè)
空間望遠(yuǎn)鏡鏡面涂層在Lyman-α（121 nm）等波段的反射性能驗(yàn)證。