眾星合作伙伴-XRnanotech介紹

XRnanotech是瑞士知名的Paul Scherrer Institute研究所10多年研發(fā)的結(jié)晶，于2020年成立，旨在將最新的突破性X射線(xiàn)光學(xué)創(chuàng)新引入市場(chǎng)。瑞士XRnanotech專(zhuān)注于研究納米結(jié)構(gòu)，開(kāi)發(fā)和制造最具創(chuàng)新性的X射線(xiàn)光學(xué)器件，以實(shí)現(xiàn)最高分辨率、效率、穩(wěn)定性和設(shè)計(jì)質(zhì)量。產(chǎn)品線(xiàn)包括菲涅耳波帶片、納米級(jí)光柵、金剛石光學(xué)器件、納米分辨率測(cè)試卡、3D分辨率測(cè)試卡等。XRnanotech 制造的菲涅耳波帶片分辨率可低至<10nm，憑借獨(dú)特的 Ir-線(xiàn)倍增技術(shù)，可以獲得精確到 5nm 的 X 射線(xiàn)束聚焦，這使得 XRnanotech 成為 X 射線(xiàn)透鏡世界紀(jì)錄保持者。

同時(shí)為了讓科研人員和工程師能快速開(kāi)始實(shí)驗(yàn)，我們備有多種規(guī)格的極紫菲涅爾波帶片（FZP），以實(shí)現(xiàn)FZP的快速交付。

襯度材料：SiO2 

襯度材料厚度：~250nm

支撐薄膜材料：Si

支撐薄膜厚度：~200nm

支撐薄膜透過(guò)率：~70%

預(yù)計(jì)衍射效率>14% @13.5nm

典型應(yīng)用：

• 相干衍射成像

• 極紫外掩模版檢測(cè)

• EUV顯微成像

• 角分辨光電子能譜