13.5nm半透半反/分束鏡
EUV 性能 波長: 13.5 nm 反射率: R ~ 30 % 透射率: T ~ 20 % 偏振: s-pol. 帶寬 (FWHM): appr. 2 nm 入射角: 45 degrees 基底 分束器框架材料: Si (100)尺寸: 12.0±0.25 mm x 12.0±0.25 mm 厚度: 525±20 μm 窗口尺寸: 8±0.15 mm x 8±0.15 mm 薄膜材料: Si3
- 產(chǎn)地：
- 型號(hào)：
- 品牌：
EUV 性能
波長: 13.5 nm
反射率: R ~ 30 %
透射率: T ~ 20 %
偏振: s-pol.
帶寬 (FWHM): appr. 2 nm
入射角: 45 degrees
基底
分束器框架材料: Si (100)
尺寸: 12.5±0.25 mm x 12.5±0.25 mm
厚度: 525±20 μm
窗口尺寸: 8±0.15 mm x 8±0.15 mm
薄膜材料: Si3N4
薄膜厚度: ~ 100 nm
鍍膜
多層膜設(shè)計(jì): Mo/Si
PTB實(shí)測反射率
定制選項(xiàng)
窗口尺寸（鍍膜區(qū)域）
反射帶寬
入射角度
s，p偏振反射率優(yōu)化
點(diǎn)擊相關(guān)閱讀
1、 EUV多層膜元件的反射率表征：從微觀到宏觀的極致優(yōu)化
2、13.5nm Mo/Si 多層膜、高性能極紫外光學(xué)元件：實(shí)測反射率高達(dá)70%
4. 工欲善其事，必先利其器。德國optiX fab鍍膜機(jī) NESSY D 及Fab一覽